美光科技之前控告聯電涉嫌侵害先進DRAM製程等機密案，一審台中地院依違反營業秘密法，判處聯電相關涉案人4年半至6年半不等徒刑，聯電也被判處罰金1億元。而今（27）日智慧財產及商業法院二審判決出爐，改輕判聯電罰金2000萬元新台幣、緩刑2年。
針對該案，一審台中地院判處聯電協理等3人分別4年半至6年半不等徒刑，聯電也被判處罰金1億元。聯電提起上訴，二審判決今日出爐，一審判決撤銷，涉案的3名員工為無罪及6月至1年不等徒刑，均得緩刑，並改判聯電罰金2000萬元新台幣、緩刑2年。
事實上，聯電與美光雙方關係逐漸好轉，去（2021）年11月，雙方共同宣布達成全球和解協議，各自撤回向對方提出的訴訟，聯電也向美光支付金額保密的和解金。
而二審判決今日出爐，聯電今日也發出聲明表示，聯電對前開判決表示欣慰，並感謝法院依據事實公正裁判。聯電並深切期望檢方尊重上訴審法院之判決，以及聯電與美光公司於2021年11月達成之全球和解，讓本案得以畫下句點。
聯電指出，公司為半導體晶圓專工業的全球領導者之一，專注於邏輯及特殊技術，為跨越電子行業的各項主要應用提供高品質的晶圓製造服務。在各領域提供具有競爭力之產品及服務之際，聯電將持續落實並優化有關營業秘密之保護與防免的政策與措施。也將持續盡全力於發展晶圓專工本業，以期在激烈競爭之全球半導體市場上立足，並為我國科技與經濟發展作出積極貢獻。
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