曾在台積電任職的工程師陳力銘，轉赴設備供應商任職後，涉嫌竊取2奈米製程機密，並翻拍數百張資料，智財商業法院今（27日）宣判，4人依違反國安法分別判刑2年至10年不等，全案仍可上訴。
檢方指出，陳力銘離開原公司後，進入東京威力科創台灣子公司擔任主管，為提升蝕刻設備表現，自2023年起透過學弟吳秉駿及同事戈一平，使用筆電登入台積電內部系統，並以手機翻攝包含2奈米製程測試數據在內的資料，累計數百張影像，其中有14張經認定屬於國家核心關鍵技術。
調查亦發現，陳力銘另與仍在職的工程師陳韋傑合作，外流14奈米以下製程相關技術，以及關鍵化學材料與設備參數。另有東京威力科創台灣子公司高層盧怡尹，被控在案發後刪除雲端資料，遭依滅證罪起訴。檢方對陳力銘求處21年重刑，其餘被告與公司亦分別請求科以重刑及高額罰金。
本案分三階段起訴，首波聚焦2奈米機密外洩，檢方建請判處陳力銘14年，吳秉駿與戈一平各求刑9年與7年；第二波針對公司違反營業秘密法，求處1.2億元罰金；第三波則針對14奈米技術外流部分，建請陳力銘與陳韋傑分別判刑7年與8年8月，公司另被求處2500萬元罰金，盧怡尹則求刑1年。
審理期間，陳力銘、吳秉駿與戈一平均已認罪，僅陳韋傑否認涉案。吳與戈分別以300萬及200萬元交保並接受電子監控；陳力銘及陳韋傑則因案情重大持續羈押。法院今上午宣判，陳力銘判10年，吳秉駿3年，戈一平2年，陳韋傑6年，全案仍可提起上訴。
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