【鉅亨網記者張旭宏 台北】
美國設備大廠應材、科磊(KLA)先後宣布推出新世代的缺陷檢測技術，宣示光學檢測技術已深入1X奈米，可能對電子束檢測技術(EBI)為主的漢微科(3658-TW)構成威脅，加上英特爾調降財測，拖累漢微科股價今(18)日腿軟下挫，尾盤更重挫，差一檔跌停，最後收盤來到853元，大跌超過5%。
全球半導體龍頭英特爾、台積電，提早展開10奈米研發，設備大廠應材也趁勢推出最新缺陷檢測及分類技術，力推電子顯微鏡技術的缺陷檢測分析系統，科磊則延續光學檢測技術，推出2910系列光學晶圓缺陷檢測平台，及eDR-7100電子束晶圓缺陷檢測系統，不讓漢微科的EBI獨佔。
漢微科表示，EBI的出現及成長，是因為光學檢測技術遭遇瓶頸，部分高階製程缺陷因光學檢測無法完全檢測，因此客戶採用EBI準確率較高，對每一個晶片的成本優化打造出最佳效益，因此短時間漢微科業績將不會受到影響。
另外，全球半導體大廠英特爾發布調降全年財測與去年持平，全年資本支出下修10億美元，營運支出下修2億美元，在應材及科磊在旁虎視眈眈，加上英特爾調降財測，因此拖累漢微科今股價重挫超過5%。
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