荷蘭曝光機巨頭「艾司摩爾」（ASML）執行長福克最近警告，緊縮曝光機銷售給中國大陸，反而加速中國大陸自主研發替代設備。福克形容，這對他們來說，已經是一場「生死存亡問題」。（葉柏毅報導）

福克20日參加在比利時安特衛普舉行的一場科技活動，並接受採訪呼籲，針對晶片製造設備銷往中國，必須制定更為一致的規則。

美國國會4月提出「硬體技術多邊協調管制法案」，要求荷蘭和日本等盟友，必須遵守美國出口管制措施，防止中國獲取先進晶片製造設備。這項法案在現行「極紫外光機」（EUV）對中國全面禁售的基礎上，將「浸潤式深紫外光機」（DUV）等設備，也納入全面限制。

福克說，艾司摩爾目前向中國出售的DUV設備，本身就是基於2015年的技術，這已經是八代之前的晶片技術；如果進一步收緊限制，只會加速中國自主研發替代設備的步伐；而這對艾司摩爾來說，已經變成一個「生死存亡的問題」了。

艾司摩爾今年1月預計，今年在中國市場的銷售額佔比為20%，較去年的33%明顯減少。按照中國海關總署的數據統計，中國大陸今年首季從荷蘭進口的曝光設備，年減24.3%。

這篇文章 禁曝光機銷陸？　ASML執行長示警：反加速中方自行研發 最早出現於 中廣新聞網。