助臺廠打入國際供應鏈 產研合作攻克新一代極紫外光製程後結構分析技術瓶頸
▲圖左起：汎銓科技黃邦浩副總經理、柳紀綸董事長、國研院蔡宏營院長、國研院國儀中心潘正堂主任、林郁洧副主任、陳建維副組長。(圖／國研院提供) 【勁報記者羅蔚舟/竹科報導】因應全球半導體先進製程的快速演進，國科會轄下國家實驗研究院國家儀器科技研究中心（國研院國儀中心）攜手國內頂尖半導體材料分析大
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人工智慧需求帶動收益 艾司摩爾二度上調2026全年財測
美國財經媒體「CNBC」報導，受到人工智慧晶片需求持續升溫的影響，荷蘭半導體設備大廠「艾司摩爾」（ASML），15日再次上調2026年財測，這是艾司摩爾今年第二次調高財測了。（葉柏毅報導）報導說，艾司摩爾表示，公司目前預估，2026年全年銷售額，將會在430億到450億歐元，約合台幣1.58兆到1
ASML獨霸極紫外光設備市場 分析稱其半導體核心地位難撼動
商傳媒｜方承業／綜合外電報導全球半導體設備巨擘ASML憑藉其在極紫外光（EUV）微影設備領域的獨佔地位，被視為半導體產業不可或缺的關鍵基礎設施。據《Bitget》分析指出，ASML是目前唯一能夠供應EUV微影設備的廠商，這項技術對於製造先進半導體晶片至關重要。EUV系統的研發與製造
日本半導體 EUV 技術落敗艾司摩爾 專家揭關鍵失誤
商傳媒｜吳承岳／台北報導曾主導半導體露光裝置市場的日本企業，在極紫外光刻（EUV）技術的開發上，徹底輸給了荷蘭的艾司摩爾（ASML），這不單是商業模式的失敗，更是技術發展未能達到量產水準的挫敗。學習院大學教授柴田友厚（TomohisaShibata）分析，日本半導體產業在EUV技術上的