MATCH法案恐成七傷拳？ASML：美對中限制DUV恐傷供應鏈
半導體龍頭ASML最新法說會指出，美對中MATCH法案將加速中國研發自主設備。圖片來源/ASML半導體曝光機龍頭艾司摩爾（ASML）14日公布第3季財報後，對美國國會審議中的「MATCH法案」表達反對。該法案旨在對中國實施更嚴格的深紫外光（DUV）曝光機出口限制。ASML財務長達森（Roge
半導體龍頭ASML最新法說會指出，美對中MATCH法案將加速中國研發自主設備。圖片來源/ASML半導體曝光機龍頭艾司摩爾（ASML）14日公布第3季財報後，對美國國會審議中的「MATCH法案」表達反對。該法案旨在對中國實施更嚴格的深紫外光（DUV）曝光機出口限制。ASML財務長達森（Roge
商傳媒｜吳承岳／台北報導中國在半導體製造設備自主化方面再有新進展。根據《Tom'sHardware》報導，上海一家獲政府支持的企業已開始量產國產浸潤式深紫外光（DUV）曝光機，首批設備預計於今年交付中芯國際、華虹半導體及長鑫儲存等中國主要晶圓製造商，作為晶圓生產線驗證及後續導入使用。消息指