半導體龍頭ASML最新法說會指出，美對中MATCH法案將加速中國研發自主設備。圖片來源/ASML

半導體曝光機龍頭艾司摩爾（ASML）14日公布第3季財報後，對美國國會審議中的「MATCH法案」表達反對。該法案旨在對中國實施更嚴格的深紫外光（DUV）曝光機出口限制。ASML財務長達森（Roger Dassen）表示，若法案在美國期中選舉後通過，反而會適得其反，加速中國自行發展競爭技術。

美國禁令恐逼出中國DUV自主化

ASML預期，中國市場今年約占其總淨銷售額的2成。儘管中國本土業者已開始限量生產浸潤式DUV設備，但整體水準仍落後ASML。

ASML管理層指出，中國在成熟邏輯與記憶體晶片的內需強勁，晶圓廠建置持續，設備需求預期延續至2027年。外界認為，若中國加速邁向設備自主，ASML來自中國的營收恐受影響。

傳零組件明年1月漲價10% 台廠動向受關注

另據韓媒《The Elec》報導，市場傳出ASML規劃自2027年1月起，針對供應南韓的極紫外光（EUV）與DUV設備替換零組件全面調漲10%，並已通知三星與SK海力士。消息指出，此舉是希望讓ASML的獲利更貼近主要客戶。這項漲價目前來自業界消息，ASML尚未公開說明。

另外，台積電傳出對ASML設備漲價持反對態度。台灣作為全球先進製程與成熟製程晶圓代工的核心重鎮，包含台積電、聯電等台廠在維持龐大曝光機機隊的營運成本上，在產業局勢劇烈變動下，恐持續面臨設備耗材支出增加等嚴峻挑戰。

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